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電解活化溶解

電解活化溶解

被拋光的金屬工件表面由于凹凸不平,在電解質溶液中陽極極化時,在電位比材料自腐蝕電位高時,凸出部位在電解質溶液中由于電阻比凹洼處小,電導大,所以電流大,溶解速度快。同時,凸出部位溶解珪出來的金屬離子擴散到溶液的速度也比凹處快,也進一步有利于凸處的金屬溶解。在活化溶解階段,下列的情況都有利于凸出部位的會屬溶解。

①電解質溶液是黏稠的或在電解質溶液中添加黏稠性成分如甘油、明膠等物質,有利于陽極表面形成一層黏性液膜,這種黏性膜有著較大的密度和較小的電導。由于凸出處的黏膜比凹洼處的薄,因而電流在凸處比在凹處更易通過,更有助于凸處金屬的溶解。

②陽離子不斷溶解后,由于陽極表面溶解產物濃度不斷增加,并逐步形成了壁壘層,這時凸處溶解產產物的濃度梯度比凹處高,新溶解的離子比凹處更容易進入電解質溶液,使凸處的金屬得以繼溶解,有助于表面的進一步整平,解釋了為什么當粗糙面逐漸被整平后,凸、凹部位差距極微時金屬表面還進一步細平的疑問。

③電拋光溶解液中,可能溶解有部分氣體,被吸附在陽極的表面。或者當陽極極化時,電位達到某一值時會釋放少量的,這些氣體在陽極表面形成一層極薄的吸附層。凸處的氣體吸附量比凹處少而薄,其絕緣性能比凹處的差。對凸的金屬溶解影響不大,但是凹處的氣體吸附層較厚且不容易逸出,所以凹處的絕緣性更大,金屬更難以溶解。因此,氣體吸附層的形成更有利于凸處的溶解和整平,但并非金屬整平的主要原因。此時,陽極表面雖經粗平,但仍然暗淡無光,需進一步拋光。



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